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電子束曝光機 晶圓級制造

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設備名稱(chēng):電子束曝光機  晶圓級制造

設備用途:電子束曝光是利用加速的聚焦電子束在抗蝕劑上曝光,顯影后便可在抗蝕劑上得到相對應的微納結構;用于各種高精度圖形結構的制備。

主要技術(shù)指標:
加速電壓:50kV
電子束電流:10pA~100nA
可加工尺寸:2inch、3inch、4inch、5inch和≥1cm不規則片
分辨率:10nm
套刻精度:50nm

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